1921年(大正10年)3月 |
初代小林勝次郎が海軍工廠にてドイツ人技術者とともに平面研磨の第一歩を踏み出す。のちに、日本光学工業(株)(現ニコン)へ転出し、平面研磨の加工に携わる。 |
1932年(昭和7年) |
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東京にて小林光器を創設。
光学測定器械の製作および特殊研磨加工を主に営業活動に入る。 |
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1947年(昭和22年)3月 |
戦後、兵庫県西宮市に移転し、特殊光学測定機器の製造メーカーとして「レックス光学研究所」に名称変更。 |
1960年(昭和35年)4月 |
半導体研磨加工を開始。 |
1963年(昭和38年)6月 |
法人に改組。「(有)レックス光学計器製作所」と改める。
シリコンウエハ研磨加工に取り組む。 |
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1983年(昭和58年)9月 |
六甲電子株式会社を設立。レックス光学から事業継承し、レックス光学は三菱電機福岡製作所内に移転。 |
1994年(平成7年)7月 |
ウェハー再生事業の本格的展開の為、B棟を建設。工場整備、大型研磨機、RCA洗浄装置を始め各種機器を設置。 |
2001年(平成13年)5月 |
ISO 14001認証取得 |
2005年(平成17年)2月 |
MEMS対応、薄物ウエハ研磨装置導入 |
2005年(平成17年)3月 |
ISO 9001:2000認証取得 |
2012年(平成24年)11月 |
平成24年度西宮市優良事業所顕彰受賞 |
2017年(平成29年)1月 |
代表取締役社長に小林秀守が就任 |
2017年(平成29年)1月 |
新素材:SiC,サファイア,LT等専用、新工場竣工 |
2018年(平成30年)2月 |
ISO 9001:2015、14001:2015認証取得 |