Prima
di tutto, vogliamo esprimere la nostra gratitudine a tutti
coloro che ci hanno sostenuto negli ultimi anni.
Le nostre origini risalgono al 1921, quando il fondatore,
Katsujiro Kobayashi, iniziò le ricerche sulle tecnologie di
lucidatura dei piani presso un arsenale navale giapponese.
In seguito, Kobayashi ha fondato una società "Rex Optical
Research Center" che produce speciali unità di misura
ottica.
Nel 1963, in un periodo in cui l'industria giapponese dei
semiconduttori era in pieno sviluppo, l'azienda si riorganizzò
in "Rex Optical Meter works Ltd." e iniziò a lucidare
ed elaborare i semiconduttori.
Nel 1983, quando l'ufficio è stato trasferito a Fukuoka, è
stata fondata una nuova società "Rokko Electronics"
per rilevare le operazioni sui semiconduttori da "Rex".
A causa del recente movimento che le tecnologie dei semiconduttori
sono ampiamente diffuse nella nostra vita quotidiana e diventano
una forza trainante che accelera lo sviluppo della tecnologia
dell'informazione, Rokko ha deciso di concentrarsi sulle operazioni
di lavorazione dei wafer di silicio che includono la specchiatura
dei wafer di prima qualità, la lucidatura su due lati e i
servizi di rettifica sul retro. Inoltre, le operazioni di
recupero dei wafer sono state lanciate nel 1994.
La nostra azienda ha ampliato l'attività adottando attrezzature
all'avanguardia come lucidatrici, smerigliatrici, lappatrici
e la varietà di strumenti di misura su larga scala, al fine
di fornire i servizi combinati di smerigliatura, lucidatura
e incisione necessari per il processo di lavorazione del materiale
siliconico. Continueremo i nostri sforzi per produrre "Migliore,
più veloce, più economico, più sicuro", proprio come
abbiamo fatto al momento della nostra fondazione.
Inoltre, faremo del nostro meglio per diventare un'azienda
fidata e attesa più che mai, perseguendo tecnologie che incorporano
uno spirito fresco e creativo. Attendiamo con ansia il vostro
continuo sostegno e incoraggiamento.
▼ Identità aziendale
Fornire un servizio attento che superi le aspettative del cliente.
Crescere e migliorare attraverso la soddisfazione dei clienti e
aprire un nuovo mercato per trovare nuovi clienti.
Attraverso il nostro successo, cercare una maggiore felicità per
tutti i dipendenti e le loro famiglie.
▼ Chi siamo
Nome dell'azienda
Rokko Electronics Co., Ltd.
Ubicazione
8-5, Nakajimacho, Nishinomiya-city,
Hyogo, 663-8105, Japan
TEL
FAX
81-798-65-4508
81-798-67-5038
Istituzione
Settembre 1983
Capitale
375.000 USD (30 milioni di yen)
Ufficiale
Presidente e Direttore Rappresentante
Hidemori Kobayashi
Società affiliate
Rex Optical Meter works Ltd.
Descrizione del lavoro
Elaborazione di wafer di silicio
Processo di rigenerazione
Lucidatura
Macinazione
Lucidatura super-sottile compatibile per MEMS
Lavorazione speciale
Acquaforte
▼ Storia
Marzo
1921
Il fondatore, Katsujiro Kobayashi, ha iniziato
una ricerca sulle tecnologie di lucidatura dei piani con ingegneri
tedeschi presso un arsenale navale giapponese. In seguito,
si è trasferito nella società "Japanese Optical Industries"
(ex Nikon) e ha lavorato nel campo della lucidatura.
1932
Fondata Kobayashi Koki a Tokyo.
L'azienda si occupa principalmente della produzione
di strumenti di misura ottici e di lucidatura speciale.
Marzo
1947
Dopo la guerra, si trasferì a Nishinomiya City,
Prefettura di Hyogo e cambiò il suo nome in " Rex Optical
Research Center" come produttore di speciali strumenti
di misura ottica.
Aprile
1960
La lucidatura dei semiconduttori è iniziata.
Giugno
1963
E' stata incorporata. La società ha cambiato "Rex Optical Measurement Unit Manufacturing Company".
Concentrato sul business della lucidatura dei wafer.
Settembre
1983
Fondazione di Rokko Electronics Co., Ltd. Rokko
Electronics ha rilevato l'attività da Rex Optics. Rex è stato
trasferito a Mitsubishi Electric (Fukuoka).
Luglio
1994
L'edificio B è stato costruito per lo sviluppo
su larga scala del settore del riciclaggio dei wafer. Manutenzione
dell'impianto, installazione di grandi macchine lucidatrici,
attrezzature per la pulizia RCA e altre attrezzature.
Maggio
2001
Ottenimento della certificazione ISO 14001
Febbraio 2005
Introdotta l'attrezzatura per la lucidatura
di wafer sottili per MEMS
Marzo
2005
Ottenimento della certificazione ISO 9001:2000
Novembre
2012
2012 Premiata come azienda dalle prestazioni
eccezionali,da Nishinomiya-city
Gennaio
2017
Hidemori Kobayashi nominato Presidente
Gennaio
2017
La nuova fabbrica ha iniziato a funzionare
per i nuovi wafer di materiale: SiC, Zaffiro, LT, ecc.
Febbraio
2018
Ottenimento della certificazione ISO 9001:2015、14001:2015
Prima
di tutto, vogliamo esprimere la nostra gratitudine a tutti
coloro che ci hanno sostenuto negli ultimi anni.
Marzo
1921
