半導体製造の一翼を担う企業として挑み続けています。六甲電子株式会社


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六甲電子株式会社

〒663-8105
兵庫県西宮市中島町8番5号


加盟団体

SIIQ

NEDIA

SiCアライアンス

SiC及び関連ワイドギャップ半導体研究会

パワーデバイス・イネーブリング協会

SSL GlobalSign Site Seal


素材別 加工対応表

新工場の強み  

○印=対応OK 各素材*各加工内容

加工内容
素材
べベル
加工
仮接合
研削
膜除去
エッチング
研磨
両面
研磨
CMP
RCA
洗浄
再生
イオン
ビーム
フレーム
マウント
シリコン
NドープSiC
Si面
C面
半絶縁SiC
Si面
C面
多結晶SiC
LT
LN
GaN
Ga面
N面
サファイア
Ga2O3
AlN
石英
GaN on Si
GaN on Sap
GaN on SiC
SOI
酸化膜
ガラス
新工場の強み  

2inchGaN-250um CMP仕上

2inchGaN-250um CMP仕上
化合物ウエハ

CMP仕上 2inchGaN-250um仕上
ウェハ
A
B
C
D
E
TV5
AVE.
um
250.4
250.4
249.6
250.7
250.2
1.1
250.3

Zygo測定データ
No.
Sa (面粗さ)  単位:nm
外周
中間
中心
平均
1
0.097
0.188
0.194
0.160
新工場の強み  

6inchSAP-250um CMP仕上

6inchSAP-250um CMP仕上
化合物ウエハ

CMP仕上 6inchSAP-250um仕上 単位:um
ウェハ
A
B
C
D
E
TV5
AVE.
1
250.2
249.8
250.8
250.1
249.6
1.2
250.1
2
249.1
248.2
249.5
249.7
248.5
1.5
249.0
3
250.5
250.1
248.8
250.3
249.8
1.7
249.9

Zygo測定データ
No.
Sa (面粗さ)  単位:nm
外周
中間
中心
平均
1
6.23
6.01
5.20
5.81
2
4.60
5.30
5.81
5.24
3
6.21
6.07
5.35
5.88
新工場の強み  

6inch-GaNonSiC(ガラス樹脂接合) CMP仕上げ

6inch-GaNonSiC(ガラス樹脂接合) CMP仕上げ
化合物ウエハ

CMP仕上 6inch-GaNonSiC(ガラス樹脂接合) 単位:um
ウェハ
A
B
C
D
E
TV5
AVE.
1
50.5
50.2
50.1
48.4
49.3
2.1
49.7
2
50.1
49.1
50.3
50.6
50.8
1.7
50.2
3
49.6
49.8
50.1
51.6
50.8
2.0
50.4

Zygo測定データ
No.
Sa (面粗さ)  単位:nm
外周
中間
中心
平均
1
0.094
0.094
0.098
0.095
2
0.091
0.094
0.096
0.094
3
0.091
0.098
0.097
0.095
 

サファイア
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